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以对盖主体进行降温

作者:云顶国际集团  时间:2026-02-05  浏览:  来源:4008云顶国际集团

  

以对盖主体进行降温

  国家知识产权局信息显示,沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请一项名为“一种涂胶显影设备”的专利,公开号CN121411079A,申请日期为2025年11月。

  专利摘要显示,本发明公开了一种涂胶显影设备,包括工艺腔室;加热件,设于工艺腔室内,用于加热晶圆;升降控制模块,包括多个升降件,多个升降件均沿加热件的轴向可移动的设于工艺腔室,用于带动晶圆移动;腔盖模块,包括盖主体,盖主体可拆卸的设于工艺腔室,以封闭工艺腔室;降温单元,包括活动放于升降控制模块的降温件;降温件的比热容C≥700 J/(kg·K);且在降温时,加热件的温度和盖主体的温度均高于降温件的初始温度;升降控制模块带动降温件靠近加热件,以对加热件进行降温;升降控制模块带动降温件靠近盖主体,以对盖主体进行降温。本发明能够提升加热器和盖体降温效率。

  天眼查资料显示,沈阳芯源微电子设备股份有限公司,成立于2002年,位于沈阳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20162.7296万人民币。通过天眼查大数据分析,沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目329次,财产线条,此外企业还拥有行政许可67个。

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